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液體導(dǎo)電膠是一種固化或干燥后具有一定導(dǎo)電性能的膠黏劑，應(yīng)用于液晶顯示屏（LCD）、發(fā)光二極管（LED）、集成電路(IC)芯片、印刷線路板組件(PCBA)、點(diǎn)陣塊、陶瓷電容、薄膜開(kāi)關(guān)、智能卡、射頻識(shí)別等電子元件和組件的封裝和粘接，有逐步取代傳統(tǒng)的錫焊焊接的趨勢(shì)。液體導(dǎo)電膠的常見(jiàn)類(lèi)別分析：1.按基體可分為熱塑性和熱固性。熱塑性基體樹(shù)脂分子鏈很長(zhǎng)，且支鏈少，在高溫下固化時(shí)流動(dòng)性較好，可重復(fù)使用。而熱固性基體材料初是單體或預(yù)聚合物，在固化過(guò)程中發(fā)生聚合反應(yīng)，高分子鏈連接形成交聯(lián)的三維...

液體導(dǎo)電膠主要由樹(shù)脂基體、導(dǎo)電粒子和分散添加劑、助劑等組成。目前市場(chǎng)上使用的導(dǎo)電膠大都是填料型。填料型導(dǎo)電膠的樹(shù)脂基體,原則上講,可以采用各種膠勃?jiǎng)╊?lèi)型的樹(shù)脂基體,常用的一般有熱固性膠黏劑如環(huán)氧樹(shù)脂、有機(jī)硅樹(shù)脂、聚酰亞胺樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂、聚氨酯、丙烯酸樹(shù)脂等膠黏劑體系。這些膠黏劑在固化后形成了導(dǎo)電膠的分子骨架結(jié)構(gòu),提供了力學(xué)性能和粘接性能保障,并使導(dǎo)電填料粒子形成通道。由于環(huán)氧樹(shù)脂可以在室溫或低于150℃固化,并且具有豐富的配方可設(shè)計(jì)性能,目前環(huán)氧樹(shù)脂基導(dǎo)電膠占主導(dǎo)地位。導(dǎo)電膠...

離子切割的加工原理與電子束加工基本類(lèi)似，也是在真空條件下，將離子源產(chǎn)生的離子束經(jīng)過(guò)加速后撞擊在工件表面上，引起材料變形，破壞分離。由于離子帶正電荷，其質(zhì)量是電子的千萬(wàn)倍，因此離子束加工主要靠高速離子束的微觀機(jī)械撞擊動(dòng)能，因此，離子束撞擊工件將引起變形、分離、玻壞等機(jī)械作用，而不像電子束是通過(guò)熱效應(yīng)進(jìn)行加工。在真空室中將離子源產(chǎn)生的離子引出，并在電場(chǎng)中加速，形成幾十電子伏到幾十千電子伏能量的離子束。在離子束濺射沉積、離子束直接沉積或電子束蒸發(fā)沉積薄膜的同時(shí)，用上述離子束進(jìn)行轟擊...

從原理上講，掃描電鏡的照明體系與透射電鏡中的類(lèi)似。但不一樣的是掃描電鏡標(biāo)樣有一些*需求，例如經(jīng)聚光鏡作用后抵達(dá)樣品處的電子束應(yīng)是直徑很細(xì)的電子探針；電子束能作掃描運(yùn)動(dòng)；末級(jí)聚光鏡的計(jì)劃應(yīng)便于信號(hào)的搜集等。掃描電子鏡電子槍的高壓不及透射電子顯微鏡中那樣高，一般設(shè)定在1-50kv。電子槍的陰極可所以熱鎢絲型的，但近年來(lái)已更多選用陰極，有些電鏡上選用場(chǎng)發(fā)射槍?zhuān)酥列ぬ鼗鶡釄?chǎng)發(fā)射槍。以熱鎢絲陰極為例，在前述加快電壓下電子發(fā)射所構(gòu)成的光源小的直徑。為了包管較好的分辨率，有必要將它們經(jīng)聚...

TIC3X電鏡制樣設(shè)備可以靈活選擇多種樣品臺(tái)，不僅適用于高通量實(shí)驗(yàn)，也適合于特定制樣需求實(shí)驗(yàn)室。依據(jù)具體需求，每臺(tái)TIC3X都可裝配多種可切換樣品臺(tái)，如標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)、三樣品臺(tái)、旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)或冷凍樣品臺(tái)，應(yīng)用于常規(guī)樣品制備，高通量樣品制備，以及某些高分子聚合物，橡膠或生物材料等溫度極敏感樣品制備。TIC3X電鏡制樣設(shè)備有關(guān)樣品的初步處理：1.取材對(duì)掃描電鏡來(lái)說(shuō)，樣品可以稍大些，面積可達(dá)8×8mm，厚度可達(dá)5mm。對(duì)于易卷曲的樣品如血管、胃腸道粘膜等，可固定在濾紙或卡片紙上，以充分暴...

真空鍍膜儀以幾十電子伏特或更高動(dòng)能的荷電粒子炮擊材料外表，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來(lái)刻蝕和鍍膜。入射一個(gè)離子所濺射出的原子個(gè)數(shù)稱(chēng)為濺射產(chǎn)額，產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu，Au，Ag等高，Ti，Mo，Ta，W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子能夠直流輝光放電發(fā)生，在10-1-10Pa真空度，在兩極間加高壓發(fā)生放電，正離子會(huì)炮擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。真空鍍膜儀為何要進(jìn)行定期的清洗？鍍膜儀使用時(shí)間久了之后要定期進(jìn)行清洗。在真空鍍膜儀使用鍍膜材料進(jìn)行鍍膜之前，...

離子切割是利用惰性氣體元素或其他元素的離子在電場(chǎng)中加速成高速離子束流，以其動(dòng)能進(jìn)行各種微細(xì)加工的方法，離子束加工在真空中進(jìn)行，污染少，特別適合加工高純度的半導(dǎo)體材料及易氧化的金屬材料。離子束加工的宏觀壓力小，因此加工應(yīng)力小，熱變形小，加工表面質(zhì)量高，適合于各種材料和低剛度零件的加工。離子切割的應(yīng)用范圍如下：1.去除加工首先把氬、氪或氙等惰性氣體充入低真空度的電離室中，用髙頻放電或直流放電使之等離子化(即正離子數(shù)與負(fù)離子數(shù)相等的混合體），在加速電極的作用下，離子從等離子體中呈束...